新一輪爆發來了！哈工大打破光刻機壟斷，外媒：低估了中企

近日，哈工大傳來了一則重磅消息，他們成功自研了一台高速超精密雷射干涉儀，該儀器可以應用於350nm-28nm的光刻機樣機。這一突破性的成果標誌著中國科技在光刻機領域取得了重大進展，並打破了西方國家在該領域的壟斷。

眾所周知，光刻機作為一種複雜的設備，擁有數十萬個零部件，每一個環節的穩定性都至關重要。其中光源是光刻機的三大核心系統之一，也是一個技術難題。過去幾十年里，中國一直依賴進口晶片，這也意味著在光刻機方面始終面臨技術短板。然而，近年來，在中國政府大力支持和科研機構的努力下，「中國芯」取得了長足進步。

過去，ASML公司曾對中國企業表示，即使公開圖紙，中國也無法複製他們的技術。然而，事實證明，中國科技在短短几年內取得了巨大的進步，這要歸功於科研實力的提升和科技人才的引進。中國在科研投入上遠遠超過歐洲國家，這使得中國在科技領域不斷向前邁進。技術壁壘並不是永恆存在的，科技在不斷發展，中國在不斷迎頭趕上。